„Neue Technologien entstehen immer in der Forschung und Entwicklung“

Kolja Haberland, Mitgründer und CTO von Laytec

© Laytec

Kolja Haberland, CTO bei Laytec, spricht über die Anfangsjahre des Unternehmens und erklärt, wie es gelang, von einem Drei-Personen-Betrieb zu einem weltweit tätigen mittelständischen Unternehmen zu wachsen. Heute ist Laytec ein globaler Anbieter von fortschrittlichen, prozessintegrierten Messsystemen, die in der Halbleiter-, Laser-, LED-, PV- und Dünnschichtfertigung zum Einsatz kommen.

Bereits in den 90er Jahren arbeiteten Sie an der In-situ-Messtechnik von III-V-Materialien. Wie führte dies zur Gründung von Laytec?

Kolja Haberland: Die Geschichte von Laytec begann bereits 1998, während ich an der Technischen Universität Berlin in Physik promovierte. Ich arbeitete an der Messtechnik für III-V-Materialien unter Verwendung eines optischen Geräts namens Reflectance Anisotropy Spectrometer (RAS), einem nicht-invasiven optischen Instrument, das wir in Berlin entwickelt hatten und das die optische Anisotropie einer Oberfläche charakterisiert.

Dieses Gerät war sehr nützlich, um zu verstehen, was im Inneren eines Reaktors für metallorganische Gasphasenepitaxie (MOCVD) während des Wachstums von III-V-Materialien wie Galliumarsenid und Indiumphosphid vor sich geht. Wir veröffentlichten Daten, nahmen an Konferenzen teil und stießen auf großes Interesse, da es zu dieser Zeit noch keine Standardgeräte für die In-situ-Messtechnik bei der III-V-Epitaxie gab. Forscher baten uns, ein RAS-System für sie zu bauen, also gründeten zwei Kollegen und ich 1999 gemeinsam Laytec, und als das Unternehmen wuchs, übernahm ich die Rolle des CTO.

Wie hat sich Laytec entwickelt?

Haberland: Anfangs konzentrierten wir uns auf die In-situ-Messtechnik für Dünnschicht-Epitaxieprozesse wie MOCVD, insbesondere für LEDs und Laser. Bis Ende der 2000er Jahre waren wir rasant gewachsen und erweiterten unser Angebot auf die Inline-Messtechnik für großflächige Abscheidungsverfahren für amorphe, polykristalline und organische Dünnschichten, wie sie in der Photovoltaik (PV) und der Displayindustrie zum Einsatz kommen. Heute bieten wir auch eigenständige Wafer-Mapping-Systeme und In-situ-Messtechnik für Trockenätzprozesse an.

Im Jahr 2018 hatten wir eine Größe und Marktdurchdringung erreicht, die es uns ermöglichte, mit großen Halbleiterunternehmen in Asien und den USA ins Gespräch zu kommen. Um dort als beständiger, globaler Player wahrgenommen zu werden, integrierten wir in die Nynomic-Gruppe und konnten von deren Erfahrung, Fachwissen und Innovationskraft profitieren.

Wir beschäftigen mittlerweile 70 Mitarbeiter und verfügen über ein internationales Vertriebs- und Servicenetzwerk, das Europa, China, Taiwan, Korea, Japan, Malaysia, Nordamerika und Indien abdeckt. In den letzten knapp 30 Jahren haben wir weltweit mehr als 4.000 Messsysteme installiert.

Wie haben Sie die Anfangszeit Ihres Unternehmens gemeistert?

Haberland: Anfangs war der Wettbewerb nicht sehr stark, da wir eine Nische gefunden hatten, in der niemand etwas Brauchbares anbot. Es gab nur sehr einfache Werkzeuge, die jedoch für die Industrie nicht gut oder präzise genug waren, und wir waren das einzige Unternehmen, das ein hochentwickeltes In-situ-Messwerkzeug anbieten konnte, das optisches Fachwissen mit Prozesskenntnissen verband. Wir hatten gute Verbindungen zu Aixtron, einem großen MOCVD-Anbieter, was ebenfalls dazu beitrug, auf dem Markt Fuß zu fassen.

Große Halbleiterausrüstungsunternehmen integrieren nur ungern Komponenten von kleinen Unternehmen in ihr Produktportfolio, da das Risiko besteht, dass das kleine Unternehmen in Konkurs geht oder übernommen wird, sodass es keine Garantie für die Unterstützung bei Ersatzteilen in den nächsten 10 Jahren gibt. Durch den Beitritt zur Nynomic Group im Jahr 2018, die einen Jahresumsatz von über 100 Millionen Euro und 500 Mitarbeiter hat, gelten wir nun als großer Akteur. Das hat uns geholfen, Türen in der Halbleiterindustrie zu öffnen und neue Märkte zu erschließen, die von den anderen Unternehmen der Nynomic Group bedient werden.

Was waren Ihre größten Heraus­forderungen am Anfang?

Haberland: Heute sind Universitäten sehr daran interessiert, Start-ups zu fördern und sie mit Inkubatorprogrammen zu unterstützen. Vor 25 Jahren sah das jedoch ganz anders aus. Obwohl die Universität bereit war, uns zu helfen, gab es keine formellen Programme. So konnten wir einen Raum von ein paar Quadratmetern in einem Labor mieten und durften die Infrastruktur nutzen, einschließlich Wasser, Kopierer und Internet – das klingt nicht nach viel, hat uns aber sehr geholfen!

Aus technologischer Sicht mussten wir einige Änderungen am Produkt vornehmen. Ursprünglich handelte es sich um ein komplexes Forschungssystem, das schwer einzustellen und schwierig zu interpretieren war. Das Feedback unserer Industriekunden lautete, dass sie etwas Einfacheres benötigten. Dementsprechend entwickelten wir ein einfacheres System, das lediglich Reflektometrie und Temperaturmessung mit nur drei dedizierten Wellenlängen statt des gesamten Spektrums durchführte. Später fügten wir dann Messungen der Waferkrümmung hinzu.

Was sind Ihre Hauptprodukte und wer sind Ihre Hauptkunden?

Haberland: Unser Produktportfolio deckt alle Bereiche der Überwachung und Steuerung von Dünnschicht- und Halbleiterprozessen ab, einschließlich In-situ-Messtechnik für Abscheidung und Ätzen, Mapping und Inline-Messtechnik. Wir vereinen all dies unter dem Begriff „Connected Metrology“.