Zeiss stärkt Halbleitergeschäft mit neuem Semiconductor Innovation Center in Korea
Das Zentrum bündelt Systeme aus den Bereichen Semiconductor Fab Solutions und Semiconductor Mask Solutions und adressiert Hochvolumen-Waferproduktion, Wafer-Level-Packaging und Photomaskenfertigung

Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology hat in Yongin, Korea, ein Semiconductor Innovation Center eröffnet, das als lokaler Hub für Zusammenarbeit mit koreanischen Chip- und Maskenherstellern dient. Das Zentrum bündelt Systeme aus den Bereichen Semiconductor Fab Solutions und Semiconductor Mask Solutions und adressiert Hochvolumen-Waferproduktion, Wafer-Level-Packaging und Photomaskenfertigung.
Installiert sind unter anderem nlx-100 für 3D-Röntgenmetrologie und Inspektion komplexer Package-Strukturen, dune100 zur aktiven Kontrolle der Waferform mit integrierter Präzisionsmesstechnik sowie Merit AE als kommende Generation der Maskenreparaturtechnologie für sehr kleine Defekte auf Photomasken. Die Systeme unterstützen Prozesskontrolle, Ausbeuteoptimierung und schnellere Evaluierung in realen Produktionsumgebungen.
Das Center ermöglicht gemeinsame Entwicklung, Prozessoptimierung und beschleunigte Qualifizierung und soll die Integration neuer Technologien in koreanischen Fabs erleichtern. Zeiss plant, das Portfolio vor Ort weiter auszubauen.









