Objektive für mehrere Fokustiefen
Die Serien beinhalten Objektive, die die optischen Aberrationen minimieren und verbesserte Fokussierung bzw. mehrere Fokustiefen für eine fortschrittliche Materialbearbeitung bieten.
Die aplanatischen aplanoXX Objektive von AdlOptica wurden für Ultrakurzpuls-Festkörperlaser oder -Faserlaser entwickelt und sind für 800 nm (Ti:Saphir) und 1030 nm (Tb:dotiert) optimiert. Sie kompensieren sphärische Aberration und Koma, wenn Licht in Glas, Saphir, Siliziumkarbid, Silizium, PMMA oder anderen transparenten Materialien fokussiert wird. AdlOptica aplanoXX aplanatische Objektive sind ideal für die Mikrobearbeitung von Glas, die 3D-Nanofabrikation, Hohlleiter-Recording und das selektive Laserätzen.
Die Multi-Fokus-Objektive foXXus von AdlOptica fokussieren Laserlicht auf 1, 2 oder 4 Fokuspunkte entlang der optischen Achse, erhöhen so die effektive Fokustiefe und ermöglichen ein Hochgeschwindigkeitsschneiden mit exzellenter Qualität von Glas, Saphir, Siliziumkarbid oder anderen spröden Materialien in mehreren Schichten. Die Objektive sind für Ultrakurzpuls-Festkörperlaser und -Faserlaser wie Yb-dotierte Laser und Nd:YAG-Laser mit den Wellenlängen 515/1030 nm oder 1064 nm optimiert.
