Hochgeschwindigkeits-Ellipsometer
Ulvac hat ein neues Hochgeschwindigkeits-Ellipsometer für viele Abscheidungsverfahren wie u.a. PVD, CVD und ALD entwickelt. Dieses Ellipsometer misst Dicke und optischen Konstanten von dünnen Filmen mit einer drastisch erhöhten Geschwindigkeit. Die Datenerfassung erfolgt in nur 10 ms. Dazu werden keine aktiven Komponenten zur Polarisationssteuerung, wie rotierende Kompensatoren oder elektro-optische Modulatoren benötigt. Dies eröffnet ein weites Feld neuer Anwendungen der spektroskopischen Ellipsometrie, bei denen Kompaktheit, einfaches Handling und schnelle Reaktion extrem wichtig sind. Der Sensorkopf kann in eine vorhandene Depositionskammer integriert werden und Dünnschichten in-situ und ex-situ vermessen. Für andere Anwendungen wie z.B. Halbleiter und Solarzellen, sind tragbare, manuelle und motorisierte Instrumente für Wafergrößen bis zu 300 mm erhältlich.
